掩模對準器是半導體制造過程中用于將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓或基板上的精密機床；這些圖案是微米級和納米級的。圖案（結(jié)構(gòu)）是使用陰影轉(zhuǎn)移方法創(chuàng)建的，其中要印刷的圖案（光掩模）放置在光源和要圖案化的基板（晶圓）之間。被圖案化的基板首先涂有感光材料（光致抗蝕劑），然后該材料對從陰影圖像投射的光作出反應。然后使用特定的化學品開發(fā)最終的圖案。這個過程通常被稱為光刻。

      掩模對準器使光刻能夠用于生產(chǎn)半導體器件，如晶體管、傳感器和醫(yī)療元件等。除了用光刻膠均勻涂覆基板的方法外，掩模對準器對于光刻工藝至關重要。掩模對準器用于將涂層基板精確地對準包含要圖案化的結(jié)構(gòu)的光掩模，然后用光照射基板以將所需的圖案轉(zhuǎn)移到基板上。在光檢測器易受溫度變化影響的應用中，例如半導體光刻中使用的UV掩模對準器，必須將光檢測器溫度系數(shù)視為可能的誤差源。目前許多掩模對準器采用強大的汞（Hg）燈，發(fā)射高水平的紫外線，暴露基板上的光敏材料（光刻膠）。取決于所使用的光刻膠，光應在寬帶范圍或特定光譜 G：436 nm、H：405 nm 或 I：365 nm 中傳輸。

      獲得汞燈青睞的替代選擇是使用 UV LED 陣列。它們包含許多 LED，它們在 G、H 或 I 線波長下發(fā)光，或三者的組合，以產(chǎn)生與水銀燈泡相似的寬帶光譜。 （插圖-什么是掩模對準器）

      Gigahertz Optik GmbH 生產(chǎn)許多 不同配置的紫外濾光輻射計 經(jīng)典光譜寬帶紫外燈，如 中高壓汞蒸氣燈或低壓燈 在面罩矯正器中發(fā)現(xiàn)。這些輻射計是與制造掩模對準器和其他光刻設備的客戶協(xié)調(diào)開發(fā)的。這通常導致我們成為具有自有品牌業(yè)務安排的OEM供應商。我們提供獨特的定制解決方案，例如內(nèi)置于電子設備中的溫度校正功能，可測量溫度并相應地校正輻照度讀數(shù)。

      我們還提供用于測量不同LED波長輻照度的紫外輻射計和提供波長和強度信息的光譜輻射計。紫外濾光輻射計的優(yōu)點包括良好的性價比、所需的扁平薄型探測器設計、快速測量時間和堅固性。光譜輻射計不限于特定的光譜帶通，因此它們更通用和有用，特別是在研究用途中。

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